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真空烘烤工艺概述

[导读]重点讨论气密封装微电子器件真空烘烤工艺,首先介绍了影响气密封装微电子器件内部气氛的主要因素,这些因素形成的原因以及对气密封装微电子器件的危害。

密封微电子器件广泛应用于航空航天、通讯、汽车电子、石油勘探等领域。随着科技的发展,材料性能不断提升,结构强度也不断提高,对其长期在极端环境应用的可靠性、稳定性要求愈来愈高。针对上述器件的密封,目前主要采用平行缝焊、储能封焊、激光焊以及合金焊料熔封等焊接方式来完成,在低露点、低含氧量的高纯度惰性气体(主要为氮气)环境下进行封装。在封装之前,需要对器件在真空烘箱内进行真空烘烤,来去除器件内部的水汽及其他污染物,以降低水汽及污染物对器件性能产生的不良影响。


真空烘烤装置应该具备以下特点:

(1)可以设定温度,并能够准确控制温度,且控温范围不小于待烘烤器件工艺要求的烘烤温度,可以设定烘烤时间;


(2)有真空系统,装有真空传感器,可以抽真空,并可以显示真空度;


(3)有充气装置,可以向真空烘烤装置腔体充气,并可以控制充气时间。


能够满足上述特点的真空烘烤装置是真空烘箱,主要有3 种类型,一种是手动控制型,均为手动操作;第二种是PLC 控制型,通过PLC 编程控制;第三种是基于电脑控制的智能型,所有控制通过电脑软件完成,并可以实时监控各参数变化。



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